1플라즈마 생성 및 반응 모듈
2소각 구간
3저장소
4Wet Jacket
Option : 전기 냉각 장치
1열 플라즈마 기술 시스템
2자동 안전 및 에너지 절약 모드
3온도 2,000℃ 이상 : 고성능
4Semi, LCD, LED, Solar : 모든 프로세스 최적화
5부식 및 분체관리 기술
과정 | 기체 |
---|---|
CVD | SiH4, NF3, WF6, B2H6, TEOS, TDMAT, N2O, C3H6, Etc. |
Diffusion | SiH4, TEOS, DCS, NH3, ClF3, B2H6, Etc. |
Etch | CF4, SF6, BCl3, Cl2, HBr, Etc. |
Solar-cell | SiH4, NH3,TMA, Etc. |
Specification
항목 | 상세 |
---|---|
Model | A209-H / TCKDW-S6 |
Treatment type | Plasma + Wet |
Application | Etch, Diffusion, CVD Process |
Capacity | 600 LPM(Max) (Including CF4 max capacity 250LPM) |
Operation Type | Automatic (PLC base TOUCH screen) |
Dimension (W×D×H, ㎜) | Scrubber 800×800×1,750 |
Weight (kg) | 600 kg |
Power | 3-Phase, 208Vac., 50/60㎐ Main Circuit Breaker / 100A Power Consumption / 18 kW Normal operating(Avg.) / 8 kW (Plasma power) |
Utility
항목 | 상세설명 | ||
---|---|---|---|
특징 | 연결 | ||
Inlet | 2~6 Port | NW40 KF FLANGE | |
N2 | 4~5 kg/cm2 | 3/8", Swagelok | |
CDA | 4~5 kg/cm2 | 3/8", Swagelok | |
PCW | 4~5 kg/cm2 | 3/8", Swagelok or NPT | |
City Water | 1~3 kg/cm2 | 3/8", Swagelok or NPT | |
Drain | Pumping Drain | 3/4” PT Female PVC | |
Exhaust | Gas Exhaust | -40 ~ -80mmH2O | ISO 100 MF Flange |
Thermal Exhaust | -40 ~ -80mmH2O | ISO 100 MF Flange |